高纯金属溅射靶材
普遍应用于半导体、平面显示、太阳能电池、光学元器件、工具改性等领域 。其中半导体集成电路关于靶材的要求最高 ，对证料的纯度、缺陷率、组织性能以及一致性、稳固性等要求极其严苛 。集成电路制造所需主要产品有高纯Cu及Cu合金、Al及Al合金、Ta、Ti、Co、W、WTi、Au、Ag、NiPt、NiV、AlSc等靶材；Ti Coil、Ta Coil和Cu Coil等靶材配套环件；CuP、Co等阳极等 。iM体育亿金是全球屈指可数具备从高纯原质料提纯到全谱系靶材产品笔直一体化研发、生产能力的工业化平台 ，研制生产的8 -12英寸多品类超高纯金属及合金靶材各项性能指标均已抵达国际领先标准 。
